细粉加工设备(20-400目)
我公司自主研发的MTW欧版磨、LM立式磨等细粉加工设备，拥有多项国家专利，能够将石灰石、方解石、碳酸钙、重晶石、石膏、膨润土等物料研磨至20-400目，是您在电厂脱硫、煤粉制备、重钙加工等工业制粉领域的得力助手。
超细粉加工设备(400-3250目)
LUM超细立磨、MW环辊微粉磨吸收现代工业磨粉技术，专注于400-3250目范围内超细粉磨加工，细度可调可控，突破超细粉加工产能瓶颈，是超细粉加工领域粉磨装备的良好选择。
粗粉加工设备(0-3MM)
兼具磨粉机和破碎机性能优势，产量高、破碎比大、成品率高，在粗粉加工方面成绩斐然。
制ITO粉设备
ITO粉的材料科学奥秘，显示与智能玻璃的核心支柱 腾讯云
1 天前 B ITO粉的独特物理特性 ITO粉的独特性主要体现在其透明性和导电性上。这些特性使它在透明导电材料领域占据了主导地位。高透明性：ITO粉在可见光范围内具有极高的透明性， 2016年1月4日 氧化铟锡（ indiumtinoxide ）简称 ITO，ITO 靶材是一种功能陶瓷材料，主要用于制造 ITO 透明导电膜玻璃。 以金属铟、锡为原料采用共沉淀法制备出纳米级 ITO 复合粉体。纳米级氧化铟锡粉体和高密度ITO靶材的制备 近年来我国引进了多 条 ITO 膜生产线, 为制备高性能的膜, 必须 优先发展高质量的 ITO 靶材, 但其靶材由国 外供给, 国外对 ITO 靶材制备技术严密封锁 为此, 有必要对现有 ITO 靶材生产技术 铟锡氧化物 (ITO) 靶材的应用和制备技术百度文库铟锡氧化物(ITO)纳米粉体具有粒径小、比表面积大、分散性好、杂质少的特点,是制备性能良好的ITO薄膜的原料本文介绍了目前ITO纳米粉体的制备方法如:喷雾燃烧法、溶胶凝胶法、水热 铟锡氧化物纳米粉体的制备方法及分散的研究进展 USTB
浅谈ITO靶材 知乎
2019年8月20日 长期以来，ITO靶材的主要市场份额都在国外靶材生产商手中，国内只能在相对低端的行业取得一点机会。 一、ITO靶材的主要分类：溅射靶、蒸镀靶。 1、蒸发靶材： 主要 2021年9月7日 电阻率和透光率是ITO薄膜的重要性能指标，而氧化铟锡粉末质量好坏直接决定了其性能指标的好坏，因此把控好氧化铟锡粉末的品质成为整条工艺流程的重中之重。而评价氧 立式砂磨机在ITO粉体制备中的工业应用要闻资讯中国粉体网2021年6月21日 ITO（氧化铟锡）靶材的四种主要成型方法 众所周知，ITO溅射靶材是将氧化铟和氧化锡粉按一定比例混合后，在高温气氛（1600度，氧气烧结）中经过一系列生产工艺形 ITO（氧化铟锡）靶材的四种主要成型方法 知乎2020年10月23日 一种实心球形ito造粒粉的制备方法，先将氧化铟粉末、氧化锡粉末与去离子水混合制成浆料，之后向其中加入分散剂并研磨充分、加入粘结剂并混合均匀，然后加热浆料或调节浆料的ph值使浆料的粘度控制 一种实心球形ITO造粒粉的制备方法与流程 X技术网
ITO靶材成型方法是什么？ 知乎
2021年8月11日 ITO靶材主要有四种成型方法 真空热压真空热压法是利用热能和机械能使陶瓷材料致密化的工艺,可生产密度为91%~96%的高密度ITO陶瓷靶材过程如下:加热模具,加入样 2020年3月16日 ITO 是一种N型氧化物半导体氧化铟锡，ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜，通常有两个性能指标：电阻率和透光率。 发展 真正进行ITO薄膜的研究工作还是19世纪末，当时是在光电导的材料上获得很薄的金属薄膜。关一文读懂ITO薄膜 知乎铟锡氧化物(ITO)纳米粉体具有粒径小、比表面积大、分散性好、杂质少的特点,是制备性能良好的ITO薄膜的原料本文介绍了目前ITO纳米粉体的制备方法如:喷雾燃烧法、溶胶凝胶法、水热合成法、化学液相共沉淀法、喷雾热解法、电解法和机械研磨法、燃烧合成法等,分析了不同制备方法的原 铟锡氧化物纳米粉体的制备方法及分散的研究进展 USTB摘要 对铟锡氧化物 ( ITO ) 靶材的现有生产工艺方案和应用现状及前景作了综 合评述 提出了 ITO 靶材成形的新方案——动态成形 技术 关键词 ITO ; 靶材成形; ITO 粉末; 应用 中图分类号 T G3 铟在自然界是稀散金属, 在矿床中常与锡伴生铟锡氧化物 (ITO) 靶材的应用和制备技术百度文库
浅谈ITO薄膜的制造工艺
2018年3月16日 1ITO膜的制作方式及优缺点分析 薄膜的性质是由制作工艺决定的，改进制备工艺的努力方向是使制成的薄膜电阻率低、透射率高且表面形貌好，薄膜生长温度接近室温，与基板附着性好，能大面积均匀制膜且制膜成本低。2021年8月5日 ITO复合粉体的制备方法有很多种,常用的方法有共沉淀法、水热法、低温制备法、溶胶凝胶法、喷雾燃烧法 、减压挥发氧化法等。其中共沉淀法工艺流程简单, 实验条件也较易控制 ,环境污染少,制得粉体粒度较均匀, 产品达到纳米级水平仅仅需要一般设备即可实现纳米铟锡氧化物ITO粉制备方法行业资讯铋粒碲粉铟箔低 2022年3月31日 ITO复合粉体的制备方法有很多种,常用的方法有共沉淀法、水热法、低温制备法、溶胶凝胶法、喷雾燃烧法 、减压挥发氧化法等。其中共沉淀法工艺流程简单, 实验条件也较易控制 ,环境污染少,制得粉体粒度较均匀, 产品达到纳米级水平仅仅需要一般设备即可实现纳米ITO粉制备方法 知乎李锦桥设计出制备ITO靶材的专用设备，将ITO粉体冷等静压压成大块溅 射靶坯体，然后在01~05MPa纯氧环境中，在1500~I600C高温烧结，可以生产 密度达理论密度95%的溅射靶。这种高温高氧烧结炉已由浙江长兴益丰特种溅射 靶窑业有限公司研制成功。ito靶材的制备 百度文库
ITO废靶重制ITO粉、高密度靶材及其制备方法与流程中冶有
2023年9月14日 ITO废靶重制ITO粉、高密度靶材及其制备方法与流程,一种ito废靶重制ito粉、高密度靶材及其制备方法技术领域1本发明属于ito靶材生产技术领域，具体涉及一种ito废靶重制ito粉、高密度靶材及其制备方法。背景技术：2o靶材是一种铟锡复合氧化物陶瓷材料，基于该靶材制备的半导体薄膜具有高电子 2020年10月23日 本发明涉及氧化铟锡造粒粉领域，尤其是涉及一种实心球体ito造粒粉的制备方法。背景技术ito薄膜导电性能良好，可见光透过率高，是一种很好的透明电极材料，被广泛应用于平板显示、太阳能电池、电致变色等领域。目前，ito薄膜主要通过对ito靶材进行磁控溅射得到，ito靶材的品质决定着薄膜的 一种实心球形ITO造粒粉的制备方法与流程 X技术网2024年9月5日 这种方法设备简单，适合大规模生产，但膜层的致密性和附着力较差。 电子束蒸镀 ：通过高能电子束轰击靶材，使靶材局部高温气化。 电子束蒸镀的优势在于可以精确控制局部加热，从而避免基材过热，尤其适合在温度敏感的基材（如塑料）上沉积高质量的ITO薄膜。ITO导电膜镀膜工艺全解析：关键技术、常见问题及解决方案2016年3月27日 而获得高品质的ITo粉体是生产优质透明电极材料的关键。 本论文以4N铟、锡锭为原料，以25％氨水为沉淀剂，采用点滴法滴加氨水的方式的化学液相共沉淀法来制备ITO纳米粉体。化学液相共沉淀法制备ITO纳米粉体的工艺研究 豆丁网
一种单分散纳米ITO的制备方法与流程 X技术网
2021年1月5日 目前ito粉体的制备方法主要包括化学共沉淀法、水热合成法、溶胶凝胶法、喷雾热分解法等：化学共沉淀法是将铟锡盐溶解制备盐溶液，以碱性溶液为沉淀剂使金属阳离子沉淀得到前驱体，再进行干燥和煅烧制得ito粉体；水热合成法是将处于碱性环境的铟锡盐溶液2024年9月5日 一、ITO导电膜镀膜工艺分类及原理 1 真空镀膜工艺 真空镀膜技术是目前应用最广泛的镀膜方法之一，其在控制膜层厚度、膜层均匀性及膜层性能方面具有显著优势。典型的真空镀膜工艺包括溅射法和蒸镀法。 A 溅射法（Sputtering） 溅射法的基本原理：物理气相沉积（PVD） 溅射法是一种典型的物理 ITO导电膜镀膜工艺全解析：关键技术、常见问题及解决方案 2016年11月9日 IT0(TindopedIndiumOxide)即氧化铟锡，是一种η型半导体材料，使用ITO革巴材，通过真空镀膜等途径制备的ITO薄膜已成为TFT1XD、PDP等平板显示器不可或缺的关键材料，也促使ITO靶材发展成令人瞩目的战略性高科技产业。靶材的品质直接决定薄膜性能的好坏，但国内镀膜厂家使用的高端ITO靶材一直依赖进口 一种制备高性能ito造粒粉的方法 X技术网2012年3月23日 利用自制的设备对粉体的电性能进行了检测，随着掺杂量的增大，粉 体的电阻呈现先减小 不同掺杂量在不同条件下制得的ITO粉体均符合In203的立方结 构，粒径均在40nm左右，掺入Sn后引起晶格畸变，XRD衍射峰向小 角度偏移， 导致晶格和晶胞 新型功能材料ATO、ITO制备工艺及其形貌和电性能的研究
一种金属铟和金属锡制备超细ITO粉的方法与流程 X技术网
2019年1月18日 本发明属于材料冶金领域，更具体的，涉及一种热球磨氧化制备超细ITO粉末的方法。背景技术铟锡氧化物(Indiumtinoxide，ITO)具有高透光率、低电阻率、制膜硬度高、良好化学稳定性和蚀刻性能等优点，广泛应用于液晶显示器、太阳能电池、薄膜发光器件、传感器等尖端制造领域。目前的制备方法都是 2019年8月20日 粉末冶金最核心的竞争力就是粉体，能够独立生产高品质稳定的粉体的公司，会在未来占有一席之地。2、大尺寸烧结工艺 ITO靶材的另一个难点就是烧结工艺，精准的烧结工艺是烧结高品质靶材的关键。3、配套设备浅谈ITO靶材 知乎2021年4月9日 本发明涉及ito废靶处理技术领域，具体为一种用ito废靶重制ito粉的方法。背景技术ito溅射靶材是由in2o3和sno2组成的氧化物烧结体，ito靶材镀膜利用率一般仅为60％，余为ito废靶。此外，在ito靶材制备过程中不可避免的会产生边角料、切屑等，这些物质皆可以作为再生铟的来源。目前，ito废靶的回收 一种用ITO废靶重制ITO粉的方法与流程 X技术网2021年8月1日 进行ITO 制程 特性量测 学习文档 清洗玻璃面 利用离子撞击Target进 而产生导电梨子附著于 玻璃表面形成薄膜 了解CF工艺流程，制程产品的特性，以及重 要的制程设备 课程内容 1 CF制程简介 2 CF制程设备 3 CF制程特性 8/1/2021 学习文档 Part1 CF制 CF制程及设备介绍百度文库
一种用ITO废靶重制ITO粉的方法与流程 X技术网
2021年4月9日 本发明涉及ito废靶处理技术领域，具体为一种用ito废靶重制ito粉的方法。背景技术ito溅射靶材是由in2o3和sno2组成的氧化物烧结体，ito靶材镀膜利用率一般仅为60％，余为ito废靶。此外，在ito靶材制备过程中不可避免的会产生边角料、切屑等，这些物质皆可以作为再生铟的来源。目前，ito废靶的回收 2021年6月9日 图1211制膏生产工艺流程图举例 牙膏制膏生产设备是系统设备，是牙膏生产中最庞大的设备系统。以制膏机（又称制膏锅）为核心，包括：①粉料（摩擦剂）输送、储存、混合、计量系统；②液料（保湿剂、液体发泡 牙膏生产设备：制膏机和制膏车间 知乎不同掺杂量在不同条件下制得的ITO粉体均符合In2O3的立方结构，粒径均在40nm左右，掺 利用自制的设备对粉体的电性能进行了检测，随着掺杂量的增大，粉体的电阻呈现先减小后增大的趋势；随着共沉淀温度的升高，粉体电阻先增大后减小；共 新型功能材料ATO、ITO制备工艺及其形貌和电性能的研究2017年11月5日 各段制程及设备 前中段制程进口替代市场空间千亿级别 TFTLCD与OLED生产工艺均可分为前段Array、中段Cell与后段Module三部分。其中Array、Cell、Module三个制程的设备投入占比约为7：25：05，24478亿的设备需求对应三个制程的设备分别为1,713亿OLED各段制程设备及企业汇总OLEDindustry
大尺寸氧化铟锡 (ITO)靶材制备研究进展
2022年6月17日 利用模压成型工艺进行ITO生坯的成型，其基本工艺流程 [48] ：将造粒好的ITO粉粒填充到一定尺寸和形状的高强度钢模中，通过模压机设备施加设定压力得到一定密度和强度的生坯；在此过程中，ITO粉粒受到压力作用，粉粒之间发生相互滑动、重新排列、变形2021年6月21日 众所周知，ITO溅射靶材是将氧化铟和氧化锡粉按一定比例混合后，在高温气氛（1600度，氧气烧结）中经过一系列生产工艺形成的黑灰色陶瓷半导体。以ITO靶材为原料，对ITO薄膜进行磁控溅射，将ITO靶材氧化到玻璃基板或ITO（氧化铟锡）靶材的四种主要成型方法 知乎2020年5月8日 本发明涉及一种氧化铟锡靶材的生产方法，特别涉及一种超高密度细晶氧化铟锡靶材的生产方法。背景技术氧化铟锡靶材（ito靶材）是一种电子陶瓷材料，主要用于磁控溅射镀制ito膜。ito膜是一种透明的导电性薄膜，用于制作显示器、触摸屏、led等需要透明电极的电子设备及元器件。ito靶材在使用 一种超高密度细晶ITO靶材的生产方法与流程 X技术网2016年1月4日 国内相对理论密度大于 99% 的 ITO 靶材主采用进口产品。金属铟、锡是我国的优势资源，生产设备都是定型通用设备，年产 20 吨纳米级氧化铟锡粉体和高密度 ITO 靶材的生产厂需要人员 50 名。纳米级氧化铟锡粉体制备已建设年产 20 吨生产线。纳米级氧化铟锡粉体和高密度ITO靶材的制备
喷雾热解法制备ITO粉体的研究*参考网 fx361cc
2016年5月17日 图1为制备ITO粉体实验装置图。图1 微波强化喷雾热解法制备ITO粉体的实验装置图 Fig 1 Schematic diagram of the experimental setup preparing ITO by microwave enhanced ultrasonic spray pyrolysis 122制备ITO粉体工艺流程图 制备ITO粉体工艺流程如图2所本文较为详细地研究了球形粉末后处理,冷等静压工艺,隔离材料等对热等静压制备ITO 靶材的影响,并对热等静压制备ITO 靶材的过程进行了计算机模拟结果表明:球形ITO 粉末进行热处理后形成了晶格常数相对于In2O3来说有所增大的单相ITO 固溶体,且粉体的摇实铟锡氧化物(ITO)粉体及高性能ITO靶材的制备与研究 百度学术2021年6月17日 其主要缺点为：靶材尺寸受设备压力和压缸的限制，制备大尺寸靶材困难。 13粉浆浇筑成形 粉浆浇注是将粉末与其特定的液体制成一定浓度的悬浮粉浆，注入具有所需形状的模具中，通过模具吸水作用使悬浮液固化，制得具一定形状的素坯的一种成形方法。高致密ITO靶材制备工艺的研究现状及发展趋势中国期刊网2020年5月20日 彭虎等[27]通过对烧结温度和烧结气氛在微波烧结过程中对ITO 靶材性能影响的研究，在纯O2 气氛，1500℃烧结温度下，制得了致密度达992%的ITO 靶材。 和常规烧结方法不同， 微波烧结加热温度场均匀、热应力小、加热速度快，适宜于快速烧结；而且能够有效抑制晶粒的异常长大， 提高显微结构的均匀 ITO 靶材的烧结工艺及其研究进展
分散剂对铟锡氧化物(ITO)粉末粒径的影响 豆丁网
2011年5月31日 主要研究了分散剂对ITO纳米粉体粒径的影响。用激光粒度仪、XRD、SEM对所得粉末进行表征。结果表明:随着分散剂的分子量的增加,所得ITO的粒径逐渐变小;加入不同分子量的PEG配合使用有利于制备纳米级颗粒,加入PEG(=11)作分散剂所制ITO粉末粒李锦桥设计出制备ITO靶材的专用设备，将ITO粉体冷等静压压成大块溅射靶坯体，然后在01~05MPa纯氧环境中，在1500~l600℃高温烧结，可以生产密度达理论密度95% 的溅射靶。这种高温高氧烧结炉已由浙江长兴益丰特种溅射靶窑业有限公司研制成功。该炉 ito靶材的制备 百度文库2021年8月2日 ITO靶材主要有四种成型方法 真空热压真空热压法是利用热能和机械能使 下以橡胶或塑料为覆盖模具材料,以液体为压力介质传递超高压在低压氧气氛的保护下,将ITO粉体通过冷等静压压制成大型陶瓷预制棒,然后在01~09 MPa的纯氧环境中,在 ITO溅射靶材的制作方法 知乎了解矿石破碎制砂设备、砂石生产线配置方案咨询： （微信同号） 从事金属铟及铟系列产品、ITO粉及ITO靶材的生产,销售自产产品（限制类、禁止类除外）；从事稀贵金属的提纯、加工,销售自加工产品（限制类、禁止类除外）；黄金ITO粉加工
靶材性能要求及制造工艺壁垒 百度文库
靶材性能要求及制造工艺壁垒ITO 靶材制作流程主要包含制金属氧化物粉体、研磨、ITO 粉制造、模压成型、气氛烧结、wkbaidu加工、绑定、检测等步骤。2024年5月7日 本发明属于材料制备技术领域，具体涉及一种ITO粉体的制备方法，包括将设定比例的四水氯化铟和无水乙醇混合均匀，经分散处理后得到混合液；将设定比例的五水氯化锡和无水乙醇混合均匀，经分散处理后得到第二混合液；将混合液和第二混合液混合均匀，经分散处理后得到第三一种ITO粉体的制备方法CNA PatentGuru2023年4月21日 本发明涉及氧化铟锡(ito)粉体的制造，特别涉及一种zn掺杂氧化铟锡(ito)粉体及其制备方法。背景技术： 1、氧化铟锡(indium tin oxide，ito)是由in2o3固溶sno2形成的n型半导体，具有高可见光透过率、低电阻率的特点，已广泛应用于液晶显示屏、触摸屏、发光二极管、太阳能电池等领域。一种Zn掺杂氧化铟锡粉体及其制备方法 X技术网2024年2月26日 图1 制作工艺流程示意图。（a）滴胶；（b）旋涂；（c）曝光；（d）显影；（e）刻蚀；（f）除胶 21 ITO 玻璃预处理 先用酒精布擦洗实验待用的 ITO 玻璃片，去除大颗粒杂质；经纯水冲洗、高纯氮气吹净后放入丙酮溶液浸泡 24 h；将其放入Scientz公司的 SB4200DTN 型超声波清洗机振洗 5 min，取出后用无水 基于无掩模光刻的高精度ITO电极湿法刻蚀工艺研究（引言
高密度氧化铟锡ITO靶材制备工艺的研究进展百度文库
介绍 了ITO 粉 末 的 制 备 方 法 如 机 械 混 合 法、喷 雾 热 分 解 法、喷 雾 燃 烧 法、化 学 共 沉 淀 法、金 属 醇 盐 水 解 法、水 热 合成法等以及ITO 靶材的制备工艺。比较和分析了ITO 粉体和靶材各制备工艺的优缺点。最后 提 出 了 制 备 高 品 质
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